发明名称 EVALUATION METHOD STORAGE MEDIUM EXPOSURE APPARATUS EXPOSURE METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE
摘要 본 발명은, 투영 광학계를 거친 기판의 노광 시간에 대한 광학 특성의 변동량에 관한 예측값을 예측 식에 의해 구하여, 투영 광학계의 광학 특성을 평가하는 평가방법으로서, 투영 광학계의 물체면에 복수의 마크가 매트릭스 형상으로 배열된 전용 패턴을 사용하여 예측 식을 결정하는 단계를 포함하고, 결정 단계는, 복수의 마크 중에서, 기판을 노광할 때에 물체면 위에 형성될 조명 영역 내에 배치되는 적어도 2개의 마크를 선택하는 단계와, 투영 광학계의 상면에 형성되는 적어도 2개의 마크의 상의 위치에 근거하여 예측 식을 구하는 단계를 포함하는 평가방법을 제공한다.
申请公布号 KR20170018786(A) 申请公布日期 2017.02.20
申请号 KR20160101004 申请日期 2016.08.09
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 호시노 토모히로;사사키 료
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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