发明名称 OXIDE SPUTTERING TARGET MATERIAL
摘要 산화물 스퍼터링 타깃재의 본딩 작업 공정이나 스퍼터링 공정에 있어서의 열취급에 기인하는 균열의 발생을 억제할 수 있는 산화물 스퍼터링 타깃재를 제공한다. 금속 성분이, Sn을 20∼50원자% 함유하고, 잔부가 Zn 및 불가피적 불순물로 이루어지는 조성을 갖고, 22℃∼400℃에 있어서의 굽힘 파단 변형률이 0.24% 이상이거나, 또는 200℃에 있어서의 항절력이 130㎫ 이상인 산화물 스퍼터링 타깃재이며, 상대 밀도의 평균값은 98.5% 이상인 것이 바람직하고, 그 변동은 0.3% 이하인 것이 더욱 바람직하다.
申请公布号 KR20170018775(A) 申请公布日期 2017.02.20
申请号 KR20160098785 申请日期 2016.08.03
申请人 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 发明人 다마다 유우;사이토오 가즈야;우에사카 슈우지로오;구마가이 도모마사
分类号 C23C14/34;C04B35/515;C04B35/64;H01J37/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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