| 发明名称 |
ENERGY SOURCES FOR CURING IN AN IMPRINT LITHOGRAPHY SYSTEM |
| 摘要 |
임프린트 리소그래피 시스템에서 경화를 위한 에너지원 및 방법이 기술되어 있다. 에너지원은 임프린트 리소그래피 시스템의 소자들을 모니터하는 이미징 유닛의 시야 범위의 밖에 위치된 하나 이상의 에너지 소자들을 포함할 수 있다. 각 에너지원은 경로를 따라 에너지를 제공하여 기판 위의 중합성 재료를 고화하도록 구성된다. |
| 申请公布号 |
KR101707898(B1) |
申请公布日期 |
2017.02.17 |
| 申请号 |
KR20117007990 |
申请日期 |
2009.08.04 |
| 申请人 |
캐논 나노테크놀로지즈 인코퍼레이티드 |
发明人 |
가나파티서브라마니안 마하데반;최 병진;왕 리앙;뤼즈 알렉스 |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/00;G03F9/00 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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