发明名称 半導体素子
摘要 【課題】チャネル長Lが短く微細化が可能な、酸化物半導体を用いたトップゲート型の半導体素子を提供することを課題とする。また、該半導体素子の作製方法を提供することを課題とする。【解決手段】絶縁表面上に酸化物半導体層と、酸化物半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層と、酸化物半導体層、前記ソース電極層、及び前記ドレイン電極層上にゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上にゲート電極層とを有し、ソース電極層及びドレイン電極層は側壁を有し、側壁は前記酸化物半導体層の上面と接する半導体素子である。【選択図】図1
申请公布号 JP2017038093(A) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20160225627 申请日期 2016.11.21
申请人 株式会社半導体エネルギー研究所 发明人 須澤 英臣;倉田 求;三上 真弓
分类号 H01L21/336;H01L21/8236;H01L27/08;H01L27/088;H01L29/786 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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