| 摘要 |
基板搬送部の内部を窒素雰囲気に保持しながら、基板搬送部の外周近傍における酸素濃度を速やかに空気の酸素濃度へ高めることができる基板処理装置を提供する。半導体ウエハにプラズマ処理を施す基板処理装置（１０）において、フープ載置台（２１）に載置されたフープとの間でウエハ（Ｗ）を搬送する第２の搬送装置（２０）が配置されるローダーモジュール（１３）の内部を、外部に対して陽圧の窒素雰囲気に保持する。ローダーモジュール（１３）の外側上部側面に送風装置（４０）を配置し、送風装置（４０）によりローダーモジュール（１３）の外側側面に沿って空気の流れを生じさせることにより、ローダーモジュール（１３）から漏れ出す窒素ガスを拡散、対流させることで、ローダーモジュール（１３）の外周近傍における酸素濃度を速やかに空気の酸素濃度へ高める。 |
