| 摘要 |
파장 200㎚ 이하의 검사광에 대한 검사 시의 콘트라스트를 향상시키고, 마스크 사용 시의 노광광에 대한 콘트라스트를 향상시켜, 고해상도의 미세 패턴을 형성할 수 있는 반사형 마스크 블랭크 및 반사형 마스크를 제공한다. 기판(1)과, 그 기판 상에 순차적으로 형성된, 노광광을 반사하는 다층 반사막(2)과, 다층 반사막(2) 상의 루테늄(Ru) 또는 그 화합물을 주성분으로 하는 보호막(6)과, 노광광을 흡수하는 흡수체막(4)을 갖는 반사형 마스크 블랭크(10)로서, 흡수체막(4)은, 최상층(4b)과 하층(4a)으로 이루어지는 적층 구조로 되어 있고, 최상층(4b)은, Si, Cr 중 적어도 1 이상의 원소의 질화물, 산화물, 산화 질화물, 탄화물, 질화 탄화물, 또는 산화 질화 탄화물을 주성분으로 하는 재료로 형성되어 있다. 반사형 마스크(20)는, 이 반사형 마스크 블랭크의 흡수체막에 전사 패턴을 형성하여 얻어진다. |
