发明名称 露光装置、露光方法、並びにデバイス製造方法
摘要 【課題】複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。【選択図】図5
申请公布号 JP2017037345(A) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20160217693 申请日期 2016.11.08
申请人 株式会社ニコン 发明人 長坂 博之
分类号 G03F7/20;H01L21/68 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址