发明名称 荷電粒子源及び荷電粒子ビーム照射装置
摘要 【課題】自重や加工によるたわみや歪みを抑制するとともに、熱膨張によるたわみや歪みを抑制する。【解決手段】荷電粒子ビームIBを引き出すための引出電極系6を有する荷電粒子源100であって、引出電極系6が、複数個のビーム引出孔61Hが形成された電極板61を、荷電粒子ビームIBの引出方向に沿って複数配置して構成されており、電極板61が、複数に分割された分割要素61Eから構成されており、複数の分割要素61Eの外周部に冷媒流通構造63が設けられている。【選択図】図3
申请公布号 JP2017037787(A) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20150158579 申请日期 2015.08.10
申请人 日新電機株式会社 发明人 三上 隆司;稲実 宏;大丸 智弘;長町 学
分类号 H01J27/20;H01J37/08;H01J37/305 主分类号 H01J27/20
代理机构 代理人
主权项
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