发明名称 |
めっきレジスト用樹脂組成物およびそれを用いた基板の製造方法 |
摘要 |
(A)成分としてポリブタジエンポリオール、水添ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール及び水添ポリイソプレンポリオールから選ばれるポリオール(a1)と架橋剤(a2)とを反応させて得られる樹脂を含む組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、当該レジスト膜を形成した基板を無電解めっき加工してパターニングする工程とを含むことを特徴とする無電解めっき加工により形成されたパターンを有する基板の製造方法。 |
申请公布号 |
JPWO2014141969(A1) |
申请公布日期 |
2017.02.16 |
申请号 |
JP20150505420 |
申请日期 |
2014.03.05 |
申请人 |
日産化学工業株式会社 |
发明人 |
佐藤 哲夫 |
分类号 |
G03F7/035;G03F7/027;G03F7/032;H05K1/03;H05K3/18 |
主分类号 |
G03F7/035 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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