| 发明名称 |
レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法 |
| 摘要 |
【課題】光透過性および耐熱性を両立させた信頼性の高いパターンが得られる、レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】基板上にレジスト膜を塗布する塗布装置と、レジスト膜の現像処理を行うことでプレパターンを形成する現像装置と、常温雰囲気下で現像後のプレパターンに光照射することで該プレパターンを脱色する第１の光照射装置と、脱色後のプレパターンに光照射することで該プレパターンを硬化させる第２の光照射装置と、を備えるレジストパターン形成装置に関する。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2017037989(A) |
申请公布日期 |
2017.02.16 |
| 申请号 |
JP20150158946 |
申请日期 |
2015.08.11 |
| 申请人 |
東京応化工業株式会社 |
发明人 |
細田 浩;稲尾 吉浩;佐藤 晶彦;小西 清孝 |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/20;G03F7/30 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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