发明名称 プラズマエッチング装置
摘要 【課題】チャンバの気密性を向上させること。【解決手段】エッチングガスをプラズマ化させるチャンバ(11)が、上部電極(41)を備える上部チャンバ(15)と、ウエーハ(W)を保持する保持テーブル(33)を備える下部チャンバ(16)と、下部チャンバから上部チャンバを片側開閉式で開閉可能にする開閉手段(2)と、を備え、開閉手段は、上部チャンバを下部チャンバから片側開閉させる軸となる旋回軸(21)と、旋回軸と共に上部チャンバを昇降可能にする昇降部(22)と、を備え、上部チャンバを開閉する時、昇降部で旋回軸を昇降させて開閉する。【選択図】図4
申请公布号 JP2017038002(A) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20150159278 申请日期 2015.08.12
申请人 株式会社ディスコ 发明人 山田 智広;和田 諭
分类号 H01L21/3065;H01L21/683 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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