ＭｇＯ−ＴｉＯ焼結体ターゲット及びその製造方法

摘要

ＴｉＯを２５〜９０ｍｏｌ％含有し、残部がＭｇＯ及び不可避的不純物からなるＭｇＯ−ＴｉＯ焼結体。本発明は、成膜速度が速く、パーティクルの発生が少ない直流（ＤＣ）スパッタリングが可能な高密度のターゲット及びその製造方法を提供することを課題とする。【選択図】図１