发明名称 高純度シリカゾルおよびその製造方法
摘要 【課題】原料として水ガラスを用いることが可能で、従来よりも金属不純物としてのCuおよびNiの含有率が低い高純度リカゾルの提供。【解決手段】平均粒子径が2〜300nmであり、シリカdry量でのCu濃度は40ppb以下かつNi濃度は20ppb以下であり、炭素の含有率が0.1質量%以下である、高純度シリカゾル。【選択図】なし
申请公布号 JP2017036209(A) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20160188793 申请日期 2016.09.27
申请人 日揮触媒化成株式会社 发明人 中山 和洋;中島 昭;小松 通郎
分类号 C01B33/148;C09K3/14 主分类号 C01B33/148
代理机构 代理人
主权项
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