| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Kolonne (1) zur thermischen Behandlung von fluiden Gemischen mit einem zylindrischen, vertikal ausgerichteten Kolonnenkörper (2), der einen Kolonnenhohlraum (3) bildet, mit einer Abfolge von vertikal beabstandeten Dual-Flow-Stoffaustauschböden (8), die in dem Kolonnenhohlraum (3) montiert sind und die Öffnungen zum Durchtritt von Flüssigkeit und Gas im Gegenstrom aufweisen, und mit zumindest einer Gaseintrittsöffnung (5), die unterhalb des untersten der Abfolge von Dual-Flow-Stoffaustauschböden (8) angeordnet ist. Die erfindungsgemäße Kolonne ist dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem untersten der Abfolge von Dual-Flow-Stoffaustauschböden (8) und der Gaseintrittsöffnung (5) ein Gasverteilungsboden (9) angeordnet ist, der Öffnungen (32) für einen vertikalen Durchtritt von Gas besitzt, das über die Gaseintrittsöffnung (5) in den Kolonnenhohlraum (3) einleitbar ist, wobei die Öffnungen (32) ausgebildet sind, eine Gasgleichverteilung über den Kolonnenquerschnitt herbeizuführen. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur thermischen Behandlung von fluiden Gemischen in einer solchen Kolonne (1). |
