| 摘要 |
基板を処理する第１及び第２の処理室（ＰＭ１，ＰＭ２）と、基板を収容する収納容器（ＦＰ１−３）を載置する載置部（ＬＰ１−３）と、負圧下で基板搬送する真空搬送機（ＶＲ）を有する真空搬送室（ＴＭ）と、大気圧下で基板搬送する大気搬送機（ＡＲ）を有する大気搬送室（ＥＦＥＭ）と、を備える基板処理装置において、大気搬送室と真空搬送室とを介し、収納容器から複数の処理室へ基板を搬送して、複数の処理室で基板処理を開始し、その後、収納容器から複数の処理室のうち所定の処理室へ基板を搬送する際に、複数の処理室における、それぞれの基板処理の残時間であるレシピ残時間と、収納容器から基板を取出し真空搬送機に載置するまでの時間であるアプローチ時間とに基づき、大気搬送機が収納容器から基板を取出すタイミングを決定する。 |
