发明名称 組成物、パターンが形成された基板の製造方法、膜及びその形成方法並びに化合物
摘要 本発明は、下記式(1)で表される部分構造を有する化合物、及び溶媒を含有する組成物である。下記式(1)中、X1及びX2は、それぞれ独立して、スピロ炭素原子及び芳香環の炭素原子と共に構成される置換又は非置換の環員数4〜10の環構造を表す。n1及びn2は、それぞれ独立して、0〜2の整数である。k1+k2は、それぞれ独立して、1〜8の整数である。但し、k1+k2は、2以上16以下である。上記化合物は、下記式(2)で表されることが好ましい。上記式(1)におけるk1+k2としては3以上が好ましい。
申请公布号 JPWO2014156910(A1) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20150508390 申请日期 2014.03.19
申请人 JSR株式会社 发明人 中藤 慎也;豊川 郁宏;若松 剛史;滝本 嘉夫;溝口 勝久;岡田 敬;宇野 高明;遠藤 剛;森次 正樹
分类号 G03F7/11;C07C255/54;C08G65/40;C08L71/08 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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