发明名称 ペリクル膜及びペリクル
摘要 EUV光に対する高い透過性を有し、実用上十分な物理強度と耐久性を有すると共に、膜破片を容易に除去でき、且つ生産性に優れたペリクル膜及びペリクルを提供する。ペリクル膜1は、炭素多孔体膜で構成されており、膜厚Dが100nm〜63μmである。
申请公布号 JPWO2014142125(A1) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20150505491 申请日期 2014.03.11
申请人 旭化成株式会社 发明人 宮下 憲和
分类号 G03F1/62;G03F1/64 主分类号 G03F1/62
代理机构 代理人
主权项
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