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发明名称
ペリクル膜及びペリクル
摘要
EUV光に対する高い透過性を有し、実用上十分な物理強度と耐久性を有すると共に、膜破片を容易に除去でき、且つ生産性に優れたペリクル膜及びペリクルを提供する。ペリクル膜1は、炭素多孔体膜で構成されており、膜厚Dが100nm〜63μmである。
申请公布号
JPWO2014142125(A1)
申请公布日期
2017.02.16
申请号
JP20150505491
申请日期
2014.03.11
申请人
旭化成株式会社
发明人
宮下 憲和
分类号
G03F1/62;G03F1/64
主分类号
G03F1/62
代理机构
代理人
主权项
地址
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