发明名称 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体
摘要 【課題】意図する効果に応じた態様で過酸化水素供給を行う。【解決手段】基板液処理装置は、硫酸と過酸化水素水との混合液が貯留され、貯留された混合液に基板が浸漬されて基板の処理が行われる処理槽と、前記処理槽から流出した混合液を受ける外槽と、前記外槽内の混合液を前記処理槽に戻す循環ラインと、前記混合液中に硫酸を供給する硫酸供給部と、前記外槽内の混合液に過酸化水素水を供給する第1過酸化水素水供給部と、前記循環ラインの下流側部分を流れる混合液に過酸化水素水を供給する第2過酸化水素水供給部とを備える。【選択図】図2
申请公布号 JP2017037941(A) 申请公布日期 2017.02.16
申请号 JP20150157744 申请日期 2015.08.07
申请人 東京エレクトロン株式会社 发明人 百 武 宏 展;土 屋 孝 文;神 崎 光一郎
分类号 H01L21/027;H01L21/304 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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