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经营范围
发明名称
露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
摘要
【課題】液浸領域を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、液体LQを供給するとともに液体LQを回収する液浸機構1を備え、液浸機構1は、基板Pの表面と対向するように形成された斜面2を有し、液浸機構1の液体回収口22が、斜面2に形成されている。【選択図】図1
申请公布号
JP2017037344(A)
申请公布日期
2017.02.16
申请号
JP20160217602
申请日期
2016.11.07
申请人
株式会社ニコン;株式会社ニコンエンジニアリング
发明人
長坂 博之;奥山 猛
分类号
G03F7/20;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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