发明名称 半导体装置用接合线
摘要 提供一种接合线,其是在表面具有Pd被覆层的Cu接合线,改善了高温高湿环境下的球接合部的接合可靠性,适合于车载用设备。一种半导体装置用接合线,具有Cu合金芯材和形成于其表面的Pd被覆层,接合线含有合计为0.1~100质量ppm的As、Te、Sn、Sb、Bi、Se中的1种以上的元素。由此,能够提高高温高湿环境下的球接合部的接合寿命并改善接合可靠性。当Cu合金芯材还含有分别为0.011~1.2质量%的Ni、Zn、Rh、In、Ir、Pt、Ga、Ge中的1种以上时,能够提高在170℃以上的高温环境下的球接合部可靠性。另外,当在Pd被覆层的表面进一步形成含有Au和Pd的合金表皮层时,楔接合性改善。
申请公布号 CN106415830A 申请公布日期 2017.02.15
申请号 CN201580002533.6 申请日期 2015.09.18
申请人 日铁住金新材料股份有限公司;新日铁住金高新材料株式会社 发明人 山田隆;小田大造;榛原照男;宇野智裕
分类号 H01L23/49(2006.01)I 主分类号 H01L23/49(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 刘航;段承恩
主权项 一种半导体装置用接合线,具有Cu合金芯材和形成于所述Cu合金芯材的表面的Pd被覆层,其特征在于,所述接合线含有选自As、Te、Sn、Sb、Bi、Se中的至少1种以上的元素,相对于线整体,所述元素的浓度合计为0.1~100质量ppm,Sn≤10质量ppm、Sb≤10质量ppm、Bi≤1质量ppm。
地址 日本埼玉县