TDR触摸屏制作方法

摘要

本发明公开了一种TDR触摸屏制作方法，包括：S1、提供衬底；S2、在覆盖了隔离层的衬底表面沉积ITO薄膜；S3、在ITO薄膜上涂覆光刻胶层；S4、将TDR触摸屏掩模板放置在涂覆光刻胶层的ITO薄膜上，使用紫外线照射光刻胶表面以对光刻胶进行部分曝光；其中，TDR触摸屏掩模板上设有若干条平行且相互独立分布的导线图形；S5、将TDR触摸屏掩模板移走，并利用显影液处理曝光后的光刻胶表面；S6、使用蚀刻液将未曝光部分的光刻胶层覆盖外的全部ITO薄膜腐蚀掉；S7、使用脱膜液将腐蚀后的ITO薄膜上的全部光刻胶剥离，从而形成若干条平行且相互独立分布的ITO导线；S8、在ITO导线表面覆盖绝缘层。

主权项

一种TDR触摸屏制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底；提供一导线层，所述导线层设于所述衬底上，所述导线层包括若干条平行且相互独立分布的导线；提供一绝缘层，所述绝缘层设于所述导线层上。