发明名称 一种大面积超薄石墨烯/二硫化钼超晶格异质材料
摘要 一种大面积超薄石墨烯/二硫化钼超晶格异质材料,采用层递式转移方法制备的由石墨烯和二硫化钼薄膜构成的多层薄膜,石墨烯的厚度是0.34‑2nm,面积要求是0.25mm<sup>2</sup>‑1cm<sup>2</sup>,二硫化钼的厚度是0.65‑3.5nm,面积要求是0.25mm<sup>2</sup>‑1cm<sup>2</sup>,采用化学气相沉积方法制备,并利用湿法循环转移直至形成总厚度为3.96‑110nm,形成超晶格异质结构,并将该大面积超薄石墨烯/二硫化钼形成的超晶格异质材料用于二维材料/单晶硅异质太阳能电池中。本发明的优点是:在不增加设备成本的前提下,制备新型超薄二维超晶格材料/单晶硅异质太阳能电池,最终提高了电池的光电转换效率。
申请公布号 CN106409957A 申请公布日期 2017.02.15
申请号 CN201611018756.4 申请日期 2016.11.21
申请人 天津理工大学 发明人 张楷亮;白鹤;马峻;王芳;李悦;李微;袁育杰
分类号 H01L31/072(2012.01)I;H01L31/028(2006.01)I;H01L31/0336(2006.01)I 主分类号 H01L31/072(2012.01)I
代理机构 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人 侯力
主权项 一种大面积超薄石墨烯/硫化钼超晶格异质材料,其特征在于:为采用层递式转移方法制备的由石墨烯和硫化钼薄膜交替生长的多层薄膜,材料面积达到0.25mm<sup>2</sup>‑1cm<sup>2</sup>,硫化钼的厚度为0.65‑3.5nm,石墨烯的厚度为0.34‑2nm,超晶格异质结的周期设置为4‑20个,每个循环周期的厚度为0.99‑5.5nm,然后利用湿法循环转移直至形成总厚度为3.96‑110nm厚的超晶格异质结构,即为大面积超薄石墨烯/二硫化钼超晶格异质材料。
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