发明名称 |
一种体全息元件及其制作方法和制作系统 |
摘要 |
本发明公开了一种体全息元件,其包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,信息层设置于基材层上,或者信息层设置于相邻的两基材层之间;从体全息元件的剖面看,其信息层具有阵列分布的像素化的条纹面,每个像素内部的条纹面具有周期性,并且与基片平面具有夹角,每个像素为反射布拉格体光栅。本发明还公开了一种像素化反射体全息元件的制作方法和制作系统。本发明通过干涉光束调控、在体全息记录材料的感光层上进行像素化拼接曝光,经后续化学或物理处理,构成复杂光学参数的像素化的反射体全息光学元件。 |
申请公布号 |
CN106406061A |
申请公布日期 |
2017.02.15 |
申请号 |
CN201611033273.1 |
申请日期 |
2016.11.16 |
申请人 |
苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 |
发明人 |
浦东林;陈林森;朱鹏飞;张瑾 |
分类号 |
G03H1/02(2006.01)I;G02B5/32(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I |
主分类号 |
G03H1/02(2006.01)I |
代理机构 |
苏州华博知识产权代理有限公司 32232 |
代理人 |
黄珩 |
主权项 |
一种体全息元件,其特征在于,包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,所述信息层设置于所述基材层上。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市苏虹东路北钟南街478号 |