发明名称 一种体全息元件及其制作方法和制作系统
摘要 本发明公开了一种体全息元件,其包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,信息层设置于基材层上,或者信息层设置于相邻的两基材层之间;从体全息元件的剖面看,其信息层具有阵列分布的像素化的条纹面,每个像素内部的条纹面具有周期性,并且与基片平面具有夹角,每个像素为反射布拉格体光栅。本发明还公开了一种像素化反射体全息元件的制作方法和制作系统。本发明通过干涉光束调控、在体全息记录材料的感光层上进行像素化拼接曝光,经后续化学或物理处理,构成复杂光学参数的像素化的反射体全息光学元件。
申请公布号 CN106406061A 申请公布日期 2017.02.15
申请号 CN201611033273.1 申请日期 2016.11.16
申请人 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 发明人 浦东林;陈林森;朱鹏飞;张瑾
分类号 G03H1/02(2006.01)I;G02B5/32(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I 主分类号 G03H1/02(2006.01)I
代理机构 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人 黄珩
主权项 一种体全息元件,其特征在于,包括至少一像素化的信息层和至少一基材层,所述信息层设置于所述基材层上。
地址 215000 江苏省苏州市苏虹东路北钟南街478号