| 发明名称 | 一种干刻设备的下部电极以及干刻设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型实施例提供一种干刻设备的下部电极以及干刻设备，涉及显示器件的制备技术领域。包括电极板本体和在电极板本体上设置的多个突起部，多个突起部的顶端构成的面为向上凸起的曲面。能够减小待刻蚀基板对下部电极上的突起部的磨损，降低待刻蚀基板在干刻时各部分之间的温度差，提高刻蚀速率的均一性，避免在待刻蚀基板表面产生印花不良。 | ||
| 申请公布号 | CN205959955U | 申请公布日期 | 2017.02.15 |
| 申请号 | CN201620857684.1 | 申请日期 | 2016.08.09 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 张光明;李伟;于凯;曲泓铭 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H01J37/04(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种干刻设备的下部电极，其特征在于，包括电极板本体和在所述电极板本体上设置的多个突起部，所述多个突起部的顶端构成的面为向上凸起的曲面。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||