发明名称 Plasma Processing Apparatus
摘要 본 발명은 유도 결합 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기의 유전체 상판 상에 배치되고 일정한 반경을 가지는 내측 안테나; 전기적으로 병렬 연결되고 상기 진공 용기의 상기 유전체 상판 상에 배치되고 상기 내측 안테나의 외곽에 배치된 복수의 외측 안테나; 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나들에 전력을 각각 분배하는 전력 분배부; 및 상기 전력 분배부를 통하여 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나들에 전력을 제공하는 RF 전원을 포함한다. 상기 전력 분배부는 서로 병렬 연결된 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나들 사이에 전력을 분배한다. 상기 외측 안테나들은 상기 내측 안테나의 중심축에서 일정한 반경의 원주 상에 일정한 간격으로 배치된다. 상기 외측 안테나들 각각은 복층 구조의 원주형 섹션(annular section) 형상을 가진다.
申请公布号 KR20170017046(A) 申请公布日期 2017.02.15
申请号 KR20150110137 申请日期 2015.08.04
申请人 주식회사 윈텔 发明人 서상훈;정성현
分类号 H01J37/32;H05H1/46 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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