使用依赖于方向的扫描速度或功率的溅射系统及方法

摘要

一种溅射系统具有带有入口端都和出口端都的处理室以及被定位在该处理室的壁上的溅射靶材。活动磁体布置被定位在溅射靶材之后，并且在该靶材后面往复地滑动。传送带将衬底以恒定的速度连续地传输通过该溅射靶材，使得在任何给定的时刻处，若干个衬底面对位于前缘和尾缘之间的靶材。活动磁体布置以比传送机的恒定速度快至少若干倍的速度滑动。在靶材的前缘和尾缘后面限定旋转区域，其中，磁体布置在它进入旋转区域时减速，并且在它在旋转区域内逆转滑动方向时加速。磁体功率和/或速度根据磁体行进方向而变化。

主权项

一种用于将材料从靶材沉积到衬底上的系统，包括：载体，所述载体能够操作以在下游方向中传输所述衬底；以及包括沉积室的一个或多个处理室，所述衬底在所述下游方向中穿过所述一个或多个处理室，所述沉积室包括：靶材；磁体组件，所述磁体组件能够操作以在所述下游方向中以下游扫描速度以及在与所述下游方向相反的上游方向中以上游扫描速度扫描越过所述靶材的磁极；以及，控制器，所述控制器能够操作以根据扫描方向来控制所述扫描速度。