| 发明名称 | 湿法刻蚀装置及其刻蚀方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种湿法刻蚀装置，包括刻蚀槽(110)、设置在刻蚀槽(110)之内的多根滚轮(120)、浸泡槽(130)及升降器(140)，多根滚轮(120)用于承载待刻蚀的基板(150)，浸泡槽(130)设置在刻蚀槽(110)之内，并位于滚轮(120)之下，升降器(140)设置在浸泡槽(130)的底板(131)的下表面上，升降器(140)推动浸泡槽(130)上升或下降，以使浸泡槽(130)中的刻蚀液浸没或脱离待刻蚀的基板(150)。本发明在利用多根滚轮将基板传送至刻蚀槽中的同时，可向浸泡槽中注满新的刻蚀液，利于缩短浸泡刻蚀时间。此外，本发明将浸泡槽内已使用的刻蚀液完全排出，从而避免由于浸泡槽内的刻蚀液的置换能力不足，长时间积累使得刻蚀液变质的现象。 | ||
| 申请公布号 | CN104091775B | 申请公布日期 | 2017.02.15 |
| 申请号 | CN201410351266.0 | 申请日期 | 2014.07.22 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 李嘉 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人 | 孙伟峰;杨林 |
| 主权项 | 一种湿法刻蚀装置，包括刻蚀槽(110)及设置在刻蚀槽(110)之内的多根滚轮(120)，所述多根滚轮(120)用于承载待刻蚀的基板(150)，其特征在于，所述湿法刻蚀装置还包括浸泡槽(130)及升降器(140)，其中，所述浸泡槽(130)设置在所述刻蚀槽(110)之内，并位于所述滚轮(120)之下，所述升降器(140)设置在所述浸泡槽(130)的底板(131)的下表面上，所述升降器(140)推动所述浸泡槽(130)上升或下降，以使所述浸泡槽(130)中的刻蚀液浸没或脱离所述待刻蚀的基板(150)，所述浸泡槽(130)的第一侧板(132)和第二侧板(133)的厚度均小于任意两根所述滚轮(120)之间的最小间隔；所述浸泡槽(130)的第一侧板(132)和第二侧板(133)均沿竖直方向下降，以使所述第一侧板(132)和第二侧板(133)的顶面平齐于或低于所述底板(131)的上表面，从而使所述浸泡槽(130)中已使用的刻蚀液完全排出。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 | ||