发明名称 |
制备窗膜核心功能层的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种窗膜核心功能层和制备该窗膜核心功能层的方法,该窗膜核心功能层包括PET基底薄膜和自下而上依次通过磁控溅射依次沉积的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层、第三透明氧化物层和外侧封层;制作窗膜核心功能层的方法为依次在六腔室卷绕式磁控溅射镀膜机或双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的六个腔室镀膜形成上述磁控溅射层。本发明的有益效果为:在所述第三透明氧化物的外侧通过磁控溅射沉积厚度为3‑10nm的Au层,将红外反射率从80%提升至90%;提高红外光反射率的同时降低可见光的反射率,保证使用了该窗膜核心功能层的腔室内温度恒定的同时又不影响采光。 |
申请公布号 |
CN104325760B |
申请公布日期 |
2017.02.15 |
申请号 |
CN201410629081.1 |
申请日期 |
2014.11.10 |
申请人 |
邹申秀 |
发明人 |
邹申秀 |
分类号 |
B32B27/06(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
B32B27/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 |
代理人 |
王淑玲 |
主权项 |
一种制备窗膜核心功能层的方法,其特征在于:包括如下步骤:S1、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第一腔室进行磁控溅射,在PET基底薄膜的表面沉积第一透明氧化物层;S2、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第二腔室进行磁控溅射,在第一透明氧化物层的表面沉积第一复合金属层;S3、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第三腔室进行磁控溅射,在第一复合金属层的表面沉积第二透明氧化物层;S4、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第四腔室进行磁控溅射,在第二透明氧化物层的表面沉积第二复合金属层;S5、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第五腔室进行磁控溅射,在第二复合金属层的表面沉积第三透明氧化物层;S6、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第六腔室进行磁控溅射,在第三透明氧化物层的表面沉积外侧封层。 |
地址 |
710082 陕西省西安市沣镐路2号民航家属院9135楼2单元501 |