一种具有增强腔体排气效果的排气装置的单片清洗机台

摘要

本发明公开了一种具有增强腔体排气效果的排气装置的单片清洗机台，在腔体内设有旋转平台，用于放置硅片并带动其旋转进行清洗工艺，所述腔体设有排气装置，排气装置包括分设于腔体内底部和侧部的第一、第二排气口，第二排气口按不低于硅片表面的高度设置；通过在腔体侧部增设排气口，可以改善腔体的排气效果，使得硅片上方的酸气、碱气及水汽等杂质气体可以尽快通过腔体侧部的排气口排出，从而减少杂质气体在硅片上方的滞留时间及掉落到硅片表面形成缺陷的可能性，因此提高了产品品质。

主权项

一种具有增强腔体排气效果的排气装置的单片清洗机台，其特征在于，所述单片清洗机台设有腔体，所述腔体内设有旋转平台，用于放置硅片并带动其旋转进行清洗工艺，所述腔体设有排气装置，所述排气装置包括分设于腔体内底部和侧部的第一、第二排气口，所述第二排气口按不低于所述硅片表面的高度设置；其中，通过所述第一排气口，将清洗过程中产生的杂质气体从腔体内的上部空间经由硅片边缘和腔体边缘之间的空隙进入腔体内的底部空间排出腔体外，同时，通过所述第二排气口，对硅片上方空间中的杂质气体进行横向分流并快速排出腔体外，以避免杂质气体滞留于硅片上方。