| 发明名称 | 紫外线照射装置及紫外线照射方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及紫外线照射装置及紫外线照射方法。本发明的课题在于提供一种可抑制在收容部内产生粒子、保持基板清洁的紫外线照射装置。本发明的紫外线照射装置包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部被设置于上述收容部的外部，可向上述基板照射紫外线；和移动部，所述移动部被设置于上述收容部的外部，使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得从上述收容部的外部向被收容在上述收容部的内部的上述基板照射上述紫外线。 | ||
| 申请公布号 | CN106409723A | 申请公布日期 | 2017.02.15 |
| 申请号 | CN201610622675.9 | 申请日期 | 2016.08.01 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 稻尾吉浩;小西清孝;佐藤晶彦;细田浩 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 杨宏军 |
| 主权项 | 紫外线照射装置，其包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板，照射部，所述照射部被设置于所述收容部的外部，可向所述基板照射紫外线，和移动部，所述移动部被设置于所述收容部的外部，使所述照射部在所述收容部的外部移动，以使得从所述收容部的外部向被收容在所述收容部的内部的所述基板照射所述紫外线。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||