发明名称 Système et procédé pour le dépôt de matériaux dans un substrat.
摘要 La présente invention a pour objet un procédé et un système (10) de dépôt de matériaux dans un substrat (12). Le procédé est particulier en ce que l’on dirige un faisceau énergétique (16) vers un premier matériau pour former une flaque (26) de masse fondue tournée vers le bas et que l’on dirige vers cette flaque un flux de particules (20) d’un second matériau pouvant migrer vers le haut dans la masse fondue du premier matériau. Un tel procédé peut être utilisé dans la fabrication de pales de turbine à gaz, par exemple.
申请公布号 CH704293(B1) 申请公布日期 2017.02.15
申请号 CH20110002054 申请日期 2011.12.28
申请人 Rolls-Royce Corporation 发明人 Quinlan Yee Shuck
分类号 C23C14/22;C23C26/00;F01D5/28 主分类号 C23C14/22
代理机构 代理人
主权项
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