发明名称 一种基于Co<sub>2</sub>MnGe/GaAs界面半金属性的制备工艺
摘要 本发明提供了一种基于Co<sub>2</sub>MnGe/GaAs界面半金属性的制备工艺,包括以下步骤:第一步:构建全霍伊斯勒L<sub>21</sub>型Co<sub>2</sub>MnGe的晶体结构,对其晶格结构进行优化;第二步:在平衡晶格常数a<sub>eq</sub>下,对Co<sub>2</sub>MnGe的态密度进行计算并加以分析;第三步:构建Co<sub>2</sub>MnGe/GaAs(111)方向四种界面结构并进行优化;第四步:计算优化后的界面结构的态密度并加以分析;第五步:通过分析和比较,获得具有半金属特性的界面结构。
申请公布号 CN106400119A 申请公布日期 2017.02.15
申请号 CN201610732684.3 申请日期 2016.08.27
申请人 许昌学院 发明人 韩红培
分类号 C30B29/52(2006.01)I;H01L43/10(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I 主分类号 C30B29/52(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种基于Co<sub>2</sub>MnGe/GaAs界面半金属性的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:第一步:构建全霍伊斯勒L<sub>21</sub>型Co<sub>2</sub>MnGe的晶体结构,对其晶格结构进行优化,获得平衡晶格常数a<sub>eq</sub>;第二步:在平衡晶格常数a<sub>eq</sub>下,对Co<sub>2</sub>MnGe的态密度进行计算并加以分析,确定块材的Co<sub>2</sub>MnGe具有良好的半金属性;第三步:在&lt;111&gt;方向,构建半金属Co<sub>2</sub>MnGe和半导体GaAs组成的四种界面结构并进行优化,在优化的过程中,为了尽可能的接近实际,允许界面附近左右5层的原子位置弛豫,其他原子位置固定;第四步:计算优化后的界面结构的态密度并加以分析,利用图示法画出界面结构的态密度,并与块材态密度进行比较;第五步:通过分析和比较,获得具有半金属特性的界面结构。
地址 461000 河南省许昌市魏都区八一路88号许昌学院