发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
摘要 본 발명은, 요철 패턴이 표면에 형성된 기판으로부터, 요철 패턴의 오목부 내에 충전된, 승화성 물질 및 불순물을 함유하는 고형물을 제거하고, 기판으로부터 일단 제거된 승화성 물질 및 불순물의 기판에의 재부착을 방지하는 것을 목적으로 한다. 기판(W)의 오목부 내에 충전된 고형물이, 처리실(52) 내의 분위기 압력 하, 제1 온도 이상의 온도에서 승화하는 고체 상태의 승화성 물질과, 처리실(52) 내의 분위기 압력 하, 제1 온도보다 높은 제2 온도 이상의 온도에서 증발하는 불순물을 함유할 때, 배기부(62) 및 배기부(63) 중 한쪽 또는 양쪽에 의해 처리실(52) 내의 분위기를 배출하면서, 기판 가열부(57)에 의해 처리실(52) 내에 배치된 기판(W)을 제2 온도 이상의 온도까지 가열한다.
申请公布号 KR20170017810(A) 申请公布日期 2017.02.15
申请号 KR20160099920 申请日期 2016.08.05
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 가가와 고지;가와노 히사시;아이바라 메이토쿠;요시다 유키
分类号 H01L21/324;H01L21/02;H01L21/60;H01L21/67 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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