发明名称 Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Lack sowie Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht
摘要 Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (26) mit einem Lack, mit den folgenden Schritten: - der Lack wird gleichmäßig auf das Substrat (26) aufgebracht, - der Lösungsmittelanteil des auf dem Substrat (26) aufgebrachten Lackes (30) wird verringert, - das beschichtete Substrat (26) wird einer Lösungsmittelatmosphäre ausgesetzt. Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht.
申请公布号 AT516292(A3) 申请公布日期 2017.02.15
申请号 AT20150050785 申请日期 2015.09.15
申请人 SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH 发明人
分类号 G03F7/16;B05D1/02;B05D3/04 主分类号 G03F7/16
代理机构 代理人
主权项
地址