发明名称 - Vertical P-N Junction Transistor using Chemical Doping and Method of manufacturing the same
摘要 이황화몰리브덴을 기반으로 한 p-n 접합 트랜지스터 및 이의 제조방법이 개시된다. 게이트 구조물 상에 적층된 양상으로 n형 이황화몰리브덴층과 p형 이황화몰리브덴층이 형성되며, 게이트 구조물의 표면에 대해 수평 방향으로 접합면이 형성된다. 게이트층으로 전계가 인가되는 경우, 각각의 이황화몰리브덴층은 도전성 채널을 형성하며, 캐리어 이동의 양상은 바이폴라 타입으로 진행된다.
申请公布号 KR20170017259(A) 申请公布日期 2017.02.15
申请号 KR20150110924 申请日期 2015.08.06
申请人 광주과학기술원;성균관대학교산학협력단 发明人 이병훈;유원종;류정진;이대영
分类号 H01L29/10;H01L21/761 主分类号 H01L29/10
代理机构 代理人
主权项
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