一种反应腔室及等离子体加工设备

摘要

本发明涉及一种反应腔室及等离子体加工设备，其顶部上方设有线圈，线圈通过第一匹配器与第一电源连接，反应腔室内部设有承载装置，承载装置通过第二匹配器与第二电源连接；第一匹配器包括第一传感器、第一控制器、第一匹配网络和第一滤波网络；第一滤波网络连接于第一控制器和第一匹配网络之间；第二匹配器包括第二传感器、第二控制器、第二匹配网络和第二滤波网络；第二滤波网络连接于第二控制器和第二匹配网络之间。反应腔室可以使第一电源输出的第一功率和第二电源输出的第二功率在工艺过程中保持稳定，不产生大的波动，从而反应腔室内的等离子体的产生和分布保持稳定，以及使工艺具有较好的均匀性和重复性；并使反应腔室的制造成本降低。

主权项

一种反应腔室，其顶部上方设有线圈，所述线圈通过第一匹配器与第一电源连接，所述第一电源用于向所述线圈加载第一功率，反应腔室内部设有承载装置，所述承载装置通过第二匹配器与第二电源连接，所述第二电源用于向所述承载装置加载第二功率，且所述第二功率不等于第一功率，其特征在于，所述第一匹配器包括第一传感器、第一控制器、第一匹配网络和第一滤波网络；其中，所述第一传感器与所述第一电源连接，用于获取第一电源的输出参数，以及根据上述输出参数，计算出所述第一匹配网络与所述第一电源的恒定输出阻抗共轭匹配时的输入阻抗值以及控制所述第一匹配网络达到该输入阻抗值所需的控制参数，并将所述控制参数发送给所述第一控制器；所述第一控制器根据所述控制参数调整所述第一匹配网络的输入阻抗，使其与第一电源的恒定输出阻抗达到共轭匹配；所述第一滤波网络连接于所述第一传感器和所述第一匹配网络之间，其用以使所述第一电源输出的第一功率的频率信号通过，并阻止所述第二电源输出的第二功率的频率信号通过，避免所述第二功率的频率信号对第一传感器和第一电源产生干扰；所述第二匹配器包括第二传感器、第二控制器、第二匹配网络和第二滤波网络；其中，所述第二传感器与所述第二电源连接，用于获取第二电源的输出参数，以及根据上述输出参数，计算出所述第二匹配网络与所述第二电源的恒定输出阻抗共轭匹配时的输入阻抗值以及控制所述第二匹配网络达到该输入阻抗值所需的控制参数，并将所述控制参数发送给所述第二控制器；所述第二控制器根据所述控制参数调整所述第二匹配网络的输入阻抗，使其与第二电源的恒定输出阻抗达到共轭匹配；所述第二滤波网络连接于所述第二传感器和所述第二匹配网络之间，其用以使所述第二电源输出的第二功率的频率信号通过，并阻止所述第一电源输出的第一功率的频率信号通过，避免所述第一功率的频率信号对第二传感器和第二电源产生干扰。