发明名称 | 硫脲插层改性高岭土及制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及硫脲(TUR)插层改性高岭土及制备方法,属于改性纳米硅酸盐粘土领域。将8‑10g高岭土(K)、100‑120ML二甲基亚砜(DMSO)和13‑14ML去离子水加入到三口瓶中,放到油浴锅中,反应温度为110‑120℃,反应时间4‑5h,洗涤干燥得插层型高岭土‑二甲基亚砜(K‑DMSO)复合物;然后,取2‑4gK‑DMSO和90‑115ML甲醇(MeOH)溶液加入到烧杯中,每20‑24h更新甲醇溶液、室温下反应7‑9d,得插层型高岭土‑甲醇(K‑MeOH)复合物;最后,1‑2gK‑MeOH湿样和20‑40ML饱和硫脲甲醇溶液加入到三口烧瓶中,50‑70℃条件下反应60‑72h,洗涤干燥得高岭土‑硫脲(K‑TUR)插层复合物。本发明目的是将含N和S阻燃元素的阻燃剂通过插层取代的方法引入到高岭土层间,得到一种新型的含N、S阻燃元素的改性高岭土,此类高岭土能与多种树脂共混,能够全面的提高材料的阻燃性能。 | ||
申请公布号 | CN106395842A | 申请公布日期 | 2017.02.15 |
申请号 | CN201610601440.1 | 申请日期 | 2016.07.27 |
申请人 | 北京化工大学 | 发明人 | 谷晓昱;宋理想;唐武飞;张胜 |
分类号 | C01B33/44(2006.01)I;C08K9/04(2006.01)I;C08K3/34(2006.01)I;C08K5/405(2006.01)I | 主分类号 | C01B33/44(2006.01)I |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 硫脲插层改性高岭土及制备方法,其特征在于:将含N和S阻燃元素的阻燃剂通过化学反应插层到高岭土层间。 | ||
地址 | 100029 北京市朝阳区北三环东路十五号 |