发明名称 DUAL DEPOSITION SYSTEM SUCCSESSIVELY DEPOSITING TWO SUBSTRATES
摘要 본 발명의 목적은 좀 더 간소화된 장치 구성으로 2 개의 기판에 대해 연속적으로 박막 소자를 장착형성할 수 있는 새로운 구성의 듀얼 증착 시스템을 제공하고자 하는 것이다. 본 발명은 두 장의 기판을 하나의 증착 챔버 중앙부로 연속하여 반입하고, 챔버 안에 있는 기판 샤틀이 각 기판을 중심에 대해 좌측과 우측에 배치된 얼라이너 쪽에 이송하여 주면, 기판 하나가 얼라인 되고 증착되는 동안 다른 기판 하나는 로딩 되고 얼라인 되며, 먼저 얼라인 된 기판이 증착을 마치면 증발원이 반대편으로 이동되어 얼라인을 후발적으로 마친 두번째 기판에 대해 증착공정을 실시하고, 이때 기판 샤틀은 새로운 기판을 받아 증발원이 없는 쪽에 이송하여 얼라이너로 얼라인 하게 한다.
申请公布号 KR20170016536(A) 申请公布日期 2017.02.14
申请号 KR20150109327 申请日期 2015.08.03
申请人 주식회사 야스 发明人 정하경;전옥철;최명운;김성문;김정용;정광호
分类号 H01L21/02;H01L21/203;H01L21/68 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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