| 摘要 |
본 발명의 목적은 나노 엣지 러프니스, 감도 및 해상도가 우수하고, 미세 패턴을 고정밀도로 안정적으로 형성 가능한 화학 증폭형 포지티브형 레지스트막을 성막할 수 있는 감방사선성 조성물, 중합체 및 단량체, 및 그의 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 감방사선성 조성물은 하기 화학식 (1)로 나타내는 반복 단위를 포함하는 산해리성기 함유 중합체와 감방사선성 산 발생제를 함유한다. <화학식 (1)>(상기 화학식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기이고, R는 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 22의 아릴기이고, Y는 탄소 원자이고, X는 Y와 함께 헤테로 원자를 포함하는 환상 구조를 형성하는데 필요한 원자단이며 -XZX-를 나타내고, Z은 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -SO- 또는 -SO-이고, X및 X는 서로 동일 또는 상이하며 단결합, 메틸렌기 또는 탄소수 2 내지 25의 알킬렌 기이고, X및 X는 치환기를 가질 수도 있고, X및 X는 각각에 존재하는 탄소 원자끼리 2가의 기로 결합될 수도 있다) |
