| 摘要 |
본 발명은 마이크로 구조체의 제조 방법 및 광 패턴 형성성 희생막 형성용 조성물에 관한 것으로서, 본 발명의 마이크로 구조체의 제조 방법은, (i) 기판 상에 희생막 패턴을 형성하는 단계, (ii) 희생막 패턴 상에 무기 재료막을 형성하는 단계, (iii) 희생막 패턴의 형상을 가지는 공간을 형성하는 단계를 포함하는 마이크로 구조체의 제조 방법에 있어서, (i) 단계는, (A) (A-1) 1,2-나프토퀴논디아지드설폰산 에스테르에 의해 페놀성 수산기가 에스테르화된 크레졸 노볼락 수지, 또는 상기 크레졸 노볼락 수지와 페놀성 수산기가 에스테르화되어 있지 않은 크레졸 노볼락 수지, (A-2) (A-1)의 노볼락 수지와 1,2-나프토퀴논디아지드설폰산 에스테르 화합물, (A-3) 페놀성 수산기가 에스테르화되어 있지 않은 크레졸 노볼락 수지와 1,2-나프토퀴논디아지드설폰산 에스테르 화합물 중 어느 하나와, 가교제를 포함하는 광 패턴 형성성 희생막 형성용 조성물로 희생막을 성막하는 공정; (B) 상기 광 패턴 형성성 희생막에 제1 고에너지선에 의한 패턴 조사를 행하는 공정; (C) 현상(現像)에 의해 포지티브형의 희생막 패턴을 형성하는 공정; 및 (D) 상기 희생막 패턴에 제2 고에너지선 조사를 행하는 조작 및 가열하는 조작을 포함하고, 크레졸 노볼락 수지 사이에 가교를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. |
