| 摘要 |
기판 상의 리소그래피 프로세스에서 사용되는 리소그래피 장치의 노광 선량을 결정하는 방법으로서, (a) 리소그래피 프로세스를 사용하여 생성된 제 1 구조체와 제 2 구조체를 포함하는 기판을 수용하는 단계; (b) 제 1 산란계 신호(scatterometer signal)를 획득하도록, 방사선으로 상기 제 1 구조체를 조명하면서 산란된 방사선을 검출하는 단계; (c) 제 2 산란계 신호를 획득하도록, 방사선으로 상기 제 2 구조체를 조명하면서 산란된 방사선을 검출하는 단계; (d) 상기 제 1 구조체와 제 2 구조체를 생성하기 위하여 사용되는 노광 선량 값을 상기 제 1 및 제 2 산란계 신호를 사용하여 결정하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 구조체는 공간 특성(spatial characteristics)이 있는 제 1 주기적 특성 및 상기 노광 선량에 의해 영향받도록 설계된 공간 특성이 있는 적어도 다른 제 2 주기적 특성을 가지며, 상기 제 2 구조체는 공간 특성이 있는 제 1 주기적 특성 및 상기 노광 선량에 의해 영향받도록 설계된 공간 특성이 있는 적어도 다른 제 2 주기적 특성을 가지고, 상기 노광 선량은 상기 제 1 구조체와 제 2 구조체의 노광 선량-영향 공간 특성들에 상이한 방식으로 영향을 주는, 리소그래피 장치의 노광 선량 결정 방법. |
