| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE COMPOSITIONS |
| 摘要 |
리소그래피 공정에 사용될 수 있는 광선 민감성(radiation-sensitive) 폴리머 및 조성물이 제공된다. 상기 폴리머 및 조성물은 활성 광선에 대한 향상된 감도를 제공한다. |
| 申请公布号 |
KR101705043(B1) |
申请公布日期 |
2017.02.09 |
| 申请号 |
KR20100139363 |
申请日期 |
2010.12.30 |
| 申请人 |
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 |
发明人 |
태커리 제임스 더블유.;아콰드 에마드 |
| 分类号 |
C08F20/18;C08F20/24;C08F28/02;C08F220/38;C08K5/41;G03F7/004;G03F7/039 |
主分类号 |
C08F20/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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