| 摘要 |
본 발명은 유도 결합 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 이 장치는 진공 용기의 유전체 상판 상에 배치되고 일정한 반경을 가지는 내측 안테나; 전기적으로 병렬 연결되고 상기 진공 용기의 상기 유전체 상판 상에 배치되고 상기 내측 안테나의 외곽에 배치된 복수의 외측 안테나; 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나에 전력을 각각 분배하는 전력 분배부; 및 상기 전력 분배부를 통하여 상기 내측 안테나와 상기 외측 안테나에 전력을 제공하는 RF 전원;을 포함한다. 상기 외측 안테나는 상기 내측 안테나의 중심축에서 일정한 반경의 원주 상에 일정한 간격으로 배치된다. 상기 외측 안테나는 제1 곡률 반경을 가지는 내측 곡선부 및 제1 곡률 반경보다 큰 제2 곡률 반경을 가지는 외측 곡선부를 포함한다. 상기 외측 안테나는 서로 중첩되지 않고 각각 폐루프를 형성한다. |
