发明名称 多結晶シリコン製造用反応炉及び多結晶シリコンの製造方法
摘要 【課題】シーメンス法により多結晶シリコンを製造するに際し、カーボンヒータからの炭素汚染を抑制し、多結晶シリコン中に含まれる炭素濃度を低減するために好適な技術を提供すること。【解決手段】本発明に係る反応炉200は、シリコン芯線の初期加熱用のカーボンヒータを収容可能な空間部としてのヒータ格納部を備えている。この反応炉200では、シリコン芯線12の初期加熱に必要な時だけカーボンヒータ13が析出反応空間20にロードされ、シリコン芯線12の初期加熱終了後にはカーボンヒータ13が析出反応空間からヒータ格納部30へとアンロードされる。これにより、カーボンヒータ13は、反応炉内で必要以上にダメージを受けることが無くなり劣化が抑制されることに加え、炉内での水素ガスとの反応が抑制されるから、メタンの発生が抑制され、多結晶シリコンへのカーボン汚染も抑制される。【選択図】図2A
申请公布号 JP2017030983(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20150148989 申请日期 2015.07.28
申请人 信越化学工業株式会社 发明人 黒澤 靖志;祢津 茂義;星野 成大
分类号 C01B33/035;C01B33/02 主分类号 C01B33/035
代理机构 代理人
主权项
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