| 摘要 |
【課題】 ナノインプリント用テンプレートの製造方法において、ハーフピッチ１Ｘｎｍクラスの微細テンプレートの作製を、パターン描画時間を増加させずに可能とするテンプレートの製造方法を提供する。【解決手段】 光透過性基板上に、金属薄膜とレジストパターンを形成し、レジストパターンをスリミングし、レジストパターンと金属薄膜を覆って被覆膜を形成し、エッチバックしてレジストパターンと金属薄膜を露出させるとともに、被覆膜をレジストパターン側面に残して側壁マスクとし、レジストパターンを除去し、側壁マスクを用いて金属薄膜をエッチングして金属薄膜パターンを形成し、側壁マスクを除去し、金属薄膜パターンをマスクに光透過性基板をエッチングして凹凸パターンを形成し、金属薄膜パターンを除去する。【選択図】 図１ |
