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发明名称
液処理方法および液処理装置
摘要
【課題】被処理体に液を供給して液処理する際に、被処理体への微小なメタル含有不純物の付着を抑制する。【解決手段】保持部に保持された被処理体の帯電を制御することにより、電荷を帯びた微小なメタル含有不純物が被処理体へ静電気力で付着されることを抑制する。または、保持部に保持された被処理体に液体が供給される過程で、液体に含まれる電荷を帯びた微小なメタル含有不純物を除去する。または、その両方を実施する。【選択図】図1
申请公布号
JP2017033991(A)
申请公布日期
2017.02.09
申请号
JP20150149652
申请日期
2015.07.29
申请人
東京エレクトロン株式会社
发明人
伊藤 雄大;土橋 和也;斉藤 美佐子
分类号
H01L21/304;H01L21/027
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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