发明名称 STRUCTURE AND DEPOSITION CHAMBER MANUFACTURING THEREOF
摘要 본 발명의 실시예에 따른 구조물에서, 유기 발광 소자가 배치되는 표시 영역과, 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역으로 구획된 TFT 기판의 유기 발광 소자를 전부 덮도록, TFT 기판 상에 이종(異種)의 두 밀도 영역을 가지는 패시베이션층이 구현된다. 이 때, 패시베이션층의 두 밀도 영역을 구성하는 원소의 종류는 서로 동일하고, 패시베이션층의 두 밀도 영역의 투습도는 서로 다르다. TFT 기판 상에 패시베이션층은, 투습도가 상대적으로 더 낮은 밀도 영역의 패시베이션층 부분이, 투습도가 상대적으로 더 높은 밀도 영역의 패시베이션층 부분을 둘러싸는 구조를 취하도록, 증착된다. 이로써 표시 영역의 유기 발광 소자를 손상시키지 않으면서도, 유기 발광 소자를 구조물의 측면에서 진행되는 투습을 최소화 할 수 있다.
申请公布号 KR20170015807(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 KR20150109152 申请日期 2015.07.31
申请人 엘지디스플레이 주식회사 发明人 신주환
分类号 H01L51/52;H01L21/268;H01L21/324;H01L27/32 主分类号 H01L51/52
代理机构 代理人
主权项
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