基板処理装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法並びにそれに用いるプログラム

摘要

【課題】基板処理温度の低温化ニーズに対応しつつ、一度に複数枚の基板を処理可能な技術を提供する。【解決手段】ボート（基板保持具）２１７に多段に保持された複数のウェハ（基板）２００を処理する反応管２０３と、反応管２０３内部に設置され、複数のウェハ（基板）２００を処理する反応ガスを供給するガス供給部と、反応管２０３の外壁に垂直方向に当設されて内部に電磁波が伝送されるとともに、外壁に当設される面に開口によって電磁波を供給する導波管３００と、導波管３００に接続され電磁波を生成する電磁波生成部とを有し、ガス供給部から供給された反応ガスを活性化させる第１のプラズマ生成部と、を備えた構造にする。これにより、低温で反応ガスを活性化でき、処理温度を低温化する。【選択図】図１