发明名称 半導体装置
摘要 【課題】用途に合わせて要求される電気的特性を備えた酸化物半導体層を用いたトランジスタ、及び該トランジスタを有する半導体装置を提供する。【解決手段】少なくともゲート電極層、ゲート絶縁膜、及び半導体層が順に積層されたボトムゲート型のトランジスタにおいて、該半導体層としてエネルギーギャップの異なる少なくとも2層の酸化物半導体層を含む酸化物半導体積層を用いる。酸化物半導体積層には、酸素又は/及びドーパントを導入してもよい。【選択図】図1
申请公布号 JP2017034266(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20160181157 申请日期 2016.09.16
申请人 株式会社半導体エネルギー研究所 发明人 山崎 舜平;篠原 聡始
分类号 H01L29/786;H01L21/8242;H01L27/108;H01L27/146;H01L51/50;H05B33/14 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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