| 摘要 |
【課題】レジストインク塗工前の基板に本発明のレジスト基板前処理液を用いて前処理を行うことで、インクジェット方式でレジストインクを塗工した後の濡れ広がりを抑制することができ、したがって微細なレジストパターンを高精度に形成することができるレジスト基板前処理液、ならびに該レジスト基板前処理液を用いたレジスト基板の製造方法を提供する。【解決手段】下記式（１）で表される化合物（Ａ１）、下記式（２）で表される化合物（Ａ２）、下記式（３）で表される化合物及びその塩（Ａ３）、下記式（４）で表される化合物（Ａ４）、下記式（５）で表される化合物（Ａ５）及び下記式（６）で表される化合物（Ａ６）からなる群から選ばれる１種以上の化合物からなる表面処理剤（Ａ）と、水とを含んでなるレジスト基板前処理組成物であって、前記表面処理剤（Ａ）の溶解度パラメーターが８〜１２（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２であって、前記表面処理剤（Ａ）の含有量が０．０１〜１０重量％であるレジスト基板前処理組成物。［Ｒ１Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｎ−］ＣＨ２ＣＯＯ−Ｍ＋（１）［式中Ｒ１は炭素数１〜２５の飽和炭化水素基又は炭素数２〜２５の不飽和炭化水素基、Ａ１は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは０〜２０の整数、ｎが２以上の場合のＡ１は同一でも異なっていてもよく、Ｍ＋は対イオンを表す。］【選択図】なし |
